PoreWise 成分
四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷
公開資料庫TETRAHYDROBISDEMETHOXYDIFERULOYLMETHANE
四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷是少兩個甲氧基的氫化薑黃素類成分，作為抗氧化成分。四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷出現在 1 款產品的成分表裡，通常排在第 12 位前後。
- INCI 名稱：
- TETRAHYDROBISDEMETHOXYDIFERULOYLMETHANE
- 來源：
- PubChem
功能分類
含這個成分的產品
四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷 在 1 款產品的成分表上出現，位次中位第 12 位；最前的一次是第 12 位（共 36 項）
| 產品 | 品牌 | 成分表上的位置 |
|---|---|---|
| RESIST 每日平滑煥膚乳 5% 果酸 | Paula's Choice | 第 12 位 / 共 36 項 |
常見問題
- 四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷在護膚品裡起什麼作用？
- 四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷是少兩個甲氧基的氫化薑黃素類成分，作為抗氧化成分。
- 四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷在這些配方裡排第幾位？
- 四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷在 1 款產品的成分表裡出現：RESIST 每日平滑煥膚乳 5% 果酸，第 12 位 / 共 36 項。
- 哪些產品含有四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷？
- 含四氫雙去甲氧基二阿魏醯甲烷的產品：RESIST 每日平滑煥膚乳 5% 果酸。