成分
四氫二阿魏醯甲烷
公開資料庫TETRAHYDRODIFERULOYLMETHANE
四氫二阿魏醯甲烷是氫化薑黃素衍生物(四氫薑黃素),作為抗氧化成分。四氫二阿魏醯甲烷出現在 1 款產品的成分表裡,通常排在第 10 位前後。
- INCI 名稱:
- TETRAHYDRODIFERULOYLMETHANE
- 來源:
- PubChem
功能分類
含這個成分的產品
四氫二阿魏醯甲烷 在 1 款產品的成分表上出現,位次中位第 10 位;最前的一次是第 10 位(共 36 項)
| 產品 | 品牌 | 成分表上的位置 |
|---|---|---|
| RESIST 每日平滑煥膚乳 5% 果酸 | Paula's Choice | 第 10 位 / 共 36 項 |
常見問題
- 四氫二阿魏醯甲烷在護膚品裡起什麼作用?
- 四氫二阿魏醯甲烷是氫化薑黃素衍生物(四氫薑黃素),作為抗氧化成分。
- 四氫二阿魏醯甲烷在這些配方裡排第幾位?
- 四氫二阿魏醯甲烷在 1 款產品的成分表裡出現:RESIST 每日平滑煥膚乳 5% 果酸,第 10 位 / 共 36 項。
- 哪些產品含有四氫二阿魏醯甲烷?
- 含四氫二阿魏醯甲烷的產品:RESIST 每日平滑煥膚乳 5% 果酸。